| レーザータイプ | 紫外線レーザー |
|---|---|
| 繰り返し可能性 | ±0.002mm |
| レーザー電源 | 20W |
| 制御システム | PC制御 |
| 製品名 | 紫外線レーザーの印機械 |
| 示す区域 | 110mm × 110mm |
|---|---|
| 冷却システム | 空冷/水冷 |
| 労働環境 | 10-35℃ |
| レーザータイプ | 紫外線レーザー |
| 標識速度 | 8000mm/s |
| 示す区域 | 110mm × 110mm |
|---|---|
| 冷却システム | 空冷/水冷 |
| 労働環境 | 10-35℃ |
| レーザータイプ | 紫外線レーザー |
| 標識速度 | 8000mm/s |
| 製品名 | UVレーザーマーキングマシン |
|---|---|
| 標識の深さ | 0.01-0.3mm |
| 波長 | 355nm |
| 制御システム | PC制御 |
| レーザータイプ | 紫外線レーザー |
| 冷却システム | 空冷/水冷 |
|---|---|
| レーザー電源 | 20W |
| 最低特性 | 0.15mm |
| 電源 | 220V/50Hz |
| 湿度 | 5~85%RH |
| 体重 | 50kg |
|---|---|
| 繰り返し可能性 | ±0.002mm |
| レーザータイプ | 紫外線レーザー |
| 冷却システム | 空冷/水冷 |
| 湿度 | 5~85%RH |
| 標識の深さ | 0.01-0.3mm |
|---|---|
| 繰り返し可能性 | ±0.002mm |
| レーザータイプ | 紫外線レーザー |
| 冷却システム | 空冷/水冷 |
| 労働環境 | 10-35℃ |
| 湿度 | 5~85%RH |
|---|---|
| レーザータイプ | 紫外線レーザー |
| 波長 | 355nm |
| 制御システム | PC制御 |
| 最低特性 | 0.15mm |
| 製品名 | UVレーザーマーキングマシン |
|---|---|
| 制御システム | PC制御 |
| レーザータイプ | 紫外線レーザー |
| 体重 | 50kg |
| 波長 | 355nm |
| 標識の深さ | 0.01-0.3mm |
|---|---|
| 標識速度 | 8000mm/s |
| 波長 | 355nm |
| 標識エリア | 110mm × 110mm |
| レーザー電源 | 20W |
