レーザー洗浄の原則と方法

July 30, 2024

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1. 選択的な加熱:レーザーエネルギーは,基板に損傷を及ぼさずに対象材料に選択的に吸収することができます.この選択的な加熱はレーザー清掃の基本原則です.

2瞬時に高温効果:

レーザーが焦点化されると 表面に非常に高い瞬間の温度が生成され 汚染物質がすぐに蒸発し 剥がれていきます

3衝撃波効果

レーザー作用によって発生する瞬間の高温は,局所的な爆発性蒸発を誘発し,衝撃波を生成し,それによって汚染物質の除去をさらに促進します.

主な清掃方法:

1パルスレーザークリーニング:

高功率短パルスレーザーで 標的に照射して 高温と衝撃波の効果で 汚染物質を浄化します

レーザークリーニングは,様々な表面汚染を迅速かつ効果的に清掃するために,高エネルギービームの選択的な加熱と衝撃波効果に依存し,広く使用されています.追加質問がある場合は聞いてください

 

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